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電子計測

オプトエレクトロニクス

ミクロ領域イメージング膜厚測定システム
F42

用途・特徴

ミクロ領域の膜厚を同時に測定し、任意の箇所を選択することでその箇所の膜厚を表示することが可能です。
高精度と使い易さを追求し設置スペースを広く必要としない 測定システムです。

アプリケーション

半導体の各種プロセス膜:CMP材料やプロセス評価の際のSiO2やSiN膜の測定
プリント配線基板上のレジストや表面保護膜
液晶ディスプレイ上のITOやレジスト膜の測定

カタログダウンロード

カタログ 薄膜測定ガイドブック(2,133KB)

カタログ 膜厚測定システムF42(1,737KB)

データはAdobe Systems(アドビシステムズ社)のPortable Document Format (PDF)形式です。Adobe(R) Readerをダウンロードの上ご覧ください。
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仕様
分光波長範囲 400-800nm
膜厚測定範囲 350Å-3μm
スポットサイズ 5倍対物レンズ使用時 5μm
10倍対物レンズ使用時 4μm
20倍対物レンズ使用時 3μm
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