

ミクロ領域の膜厚を同時に測定し、任意の箇所を選択することでその箇所の膜厚を表示することが可能です。
高精度と使い易さを追求し設置スペースを広く必要としない
測定システムです。
半導体の各種プロセス膜:CMP材料やプロセス評価の際のSiO2やSiN膜の測定
プリント配線基板上のレジストや表面保護膜
液晶ディスプレイ上のITOやレジスト膜の測定
| 分光波長範囲 | 400-800nm |
|---|---|
| 膜厚測定範囲 | 350Å-3μm |
| スポットサイズ | 5倍対物レンズ使用時 5μm 10倍対物レンズ使用時 4μm 20倍対物レンズ使用時 3μm |